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    P溝道MOS管-P溝道MOS管型號、參數(shù)及工作原理-KIA MOS管

    信息來源:本站 日期:2018-07-17 

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    場效應管的參數(shù)

    ① 開啟電壓VGS(th) (或VT)

    開啟電壓是MOS增強型管的參數(shù),柵源電壓小于開啟電壓的絕對值,場效應管不能導通

    ② 夾斷電壓VGS(off) (或VP)

    夾斷電壓是耗盡型FET的參數(shù),當VGS=VGS(off) 時,漏極電流為零

    ③ 飽和漏極電流IDSS

    耗盡型場效應三極管,當VGS=0時所對應的漏極電流

    ④ 輸入電阻RGS

    場效應三極管的柵源輸入電阻的典型值,對于結型場效應三極管,反偏時RGS約大于107Ω,對于絕緣柵場型效應三極管,RGS約是109~1015Ω

    ⑤ 低頻跨導gm

    低頻跨導反映了柵壓對漏極電流的控制作用,這一點與電子管的控制作用十分相像。gm可以在轉移特性曲線上求取,單位是mS(毫西門子)

    ⑥ 最大漏極功耗PDM

    最大漏極功耗可由PDM= VDS ID決定,與雙極型三極管的PCM相當


    P溝道MOS管型號

    Part Numbe

    IDA

    BVDSSV

    RDSON)(Ω)

    Package

    KIA2301

    -2.8

    -20

    0.12

    SOT-23

    KIA2305

    -3.5

    -20

    0.055

    SOT-23

    KIA3401

    -4

    -30

    0.06

    SOT-23

    KIA3407

    -4.1

    -30

    0.06

    SOT-23

    KIA3409

    -2.6

    -30

    0.13

    SOT-23

    KIA3415

    -4

    -16

    0.045

    SOT-23

    KIA3423

    -2

    -20

    0.092

    SOT-23

    KIA4953

    -5.3

    -30

    0.063

    SOP-8

    KIA9435

    -5.3

    -30

    0.06

    SOP-8

    KIA7P03A

    -7.5

    -30

    0.018

    SOP-8

    KIA4435

    -10.5

    -30

    0.018

    SOP-8



    Part Numbe

    IDA

    VDSSv

    內阻(小)

    內阻(大)

    ciss

    Package

    pF

    KIA23P10A

    -23

    -100

    0.95

    0.078

    3029

    TO-252

    KIA35P10A

    -35

    -100

    0.055

    0.042

    4920

    TO-252

    KPD8610A

    -35

    -100

    0.055

    0.042

    6516

    TO-252


    N溝道MOS管部分型號

    Part Numbe

    IDA

    VDSSv

    內阻(小)

    內阻(大)

    ciss

    Package

    pF

    KIA9N90H

    9

    900

    1.4

    1.12

    2780

    TO-247

    KAI18N50H

    18

    500

    0.32

    0.25

    2500

    TO-247

    KIA20N50H

    20

    500

    0.26

    0.21

    2700

    TO-247

    KIA24N50H

    24

    500

    0.2

    0.16

    3500

    TO-247

    KIA3306A

    80

    60

    0.008

    0.007

    3390

    TO-247

    KNM3308A

    80

    80

    0.09

    0.0062

    3110

    TO-247

    KIA2906A

    130

    60

    0.007

    0.0055

    3100

    TO-247

    KIA2807N

    150

    75

    0.006

    0.005

    7200

    TO-247

    KIA2808A

    150

    80

    0.0045

    0.004

    6109

    TO-247

    KIA2806A

    160

    40

    0.0045

    0.0035

    4376

    TO-247

    KIA2804A

    190

    60

    0.0035

    0.0022

    4800

    TO-247

    KIA2N60H

    2

    600

    5

    4.1

    200

    TO-220F

    KIA3N80H

    3

    800

    4.8

    4

    543

    TO-220F

    KNF4360A

    4

    600

    2.3

    1.9

    511

    TO-220F

    KIA4N60H

    4

    600

    2.7

    2.3

    500

    TO-220F

    KIA730H

    6

    400

    1

    0.83

    520

    TO-220F

    KIA9N90H

    9

    900

    1.4

    1.12

    2780

    TO-3P

    KIA10N80H

    10

    800

    1.1

    0.85

    2230

    TO-3P

    KIA16N50H

    16

    500

    0.38

    0.32

    2200

    TO-3P

    KIA18N50H

    18

    500

    0.32

    0.25

    2500

    TO-3P

    KIA20N40H

    20

    400

    0.25

    0.2

    2135

    TO-3P

    KIA20N50H

    20

    500

    0.26

    0.21

    2700

    TO-3P

    KIA24N50H

    24

    500

    0.2

    0.16

    3500

    TO-3P

    KNH8150A

    30

    500

    0.065

    0.15

    4150

    TO-3P

    KNH9120A

    40

    200

    0.1

    0.05

    2800

    TO-3P


    P溝道MOS管工作原理

    金屬氧化物半導體場效應(MOS)晶體管可分為N溝道與P溝道兩大類, P溝道硅MOS場效應晶體管在N型硅襯底上有兩個P+區(qū),分別叫做源極和漏極,兩極之間不通導,柵極上加有足夠的正電壓(源極接地)時,柵極下的N型硅表面呈現(xiàn)P型反型層,成為銜接源極和漏極的溝道。改動柵壓可以改動溝道中的電子密度,從而改動溝道的電阻。這種MOS場效應晶體管稱為P溝道增強型場效應晶體管。假設N型硅襯底表面不加柵壓就已存在P型反型層溝道,加上恰當?shù)钠珘海墒箿系赖碾娮柙龃蠡驕p小。這樣的MOS場效應晶體管稱為P溝道耗盡型場效應晶體管。統(tǒng)稱為PMOS晶體管。

    P溝道MOS晶體管的空穴遷移率低,因而在MOS晶體管的幾何尺寸和工作電壓絕對值相等的情況下,PMOS晶體管的跨導小于N溝道MOS晶體管。此外,P溝道MOS晶體管閾值電壓的絕對值普通偏高,懇求有較高的工作電壓。它的供電電源的電壓大小和極性,與雙極型晶體管——晶體管邏輯電路不兼容。PMOS因邏輯擺幅大,充電放電過程長,加之器件跨導小,所以工作速度更低,在NMOS電路(見N溝道金屬—氧化物—半導體集成電路)呈現(xiàn)之后,多數(shù)已為NMOS電路所取代。只是,因PMOS電路工藝簡單,價錢低價,有些中范圍和小范圍數(shù)字控制電路仍采用PMOS電路技術。PMOS的特性,Vgs小于一定的值就會導通,適宜用于源極接VCC時的情況(高端驅動)。但是,固然PMOS可以很便當?shù)赜米鞲叨蓑寗樱捎趯娮璐螅瑑r錢貴,交流種類少等緣由,在高端驅動中,通常還是運用NMOS。

    正常工作時,P溝道增強型MOS管的襯底必需與源極相連,而漏心極的電壓Vds應為負值,以保證兩個P區(qū)與襯底之間的PN結均為反偏,同時為了在襯底頂表面左近構成導電溝道,柵極對源極的電壓Vgs也應為負。

    1.Vds≠O的情況導電溝道構成以后,DS間加負向電壓時,那么在源極與漏極之間將有漏極電流Id流通,而且Id隨Vds而增加.Id沿溝道產(chǎn)生的壓降使溝道上各點與柵極間的電壓不再相等,該電壓削弱了柵極中負電荷電場的作用,使溝道從漏極到源極逐漸變窄.當Vds增大到使Vgd=Vgs(TH),溝道在漏極左近呈現(xiàn)預夾斷.

    2.導電溝道的構成(Vds=0)當Vds=0時,在柵源之間加負電壓Vgs,由于絕緣層的存在,故沒有電流,但是金屬柵極被補充電而聚集負電荷,N型半導體中的多子電子被負電荷排斥向體內運動,表面留下帶正電的離子,構成耗盡層,隨著G、S間負電壓的增加,耗盡層加寬,當Vgs增大到一定值時,襯底中的空穴(少子)被柵極中的負電荷吸收到表面,在耗盡層和絕緣層之間構成一個P型薄層,稱反型層,這個反型層就構成漏源之間的導電溝道,這時的Vgs稱為開啟電壓Vgs(th),Vgs到Vgs(th)后再增加,襯底表面感應的空穴越多,反型層加寬,而耗盡層的寬度卻不再變化,這樣我們可以用Vgs的大小控制導電溝道的寬度。



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